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  • 全反射X熒光光譜儀
  • 全反射X熒光光譜儀
產(chǎn)品名稱:

全反射X熒光光譜儀

產(chǎn)品型號(hào): HORIZON
更新時(shí)間: 2024-03-06
品牌: GNR/津鈉
生產(chǎn)地址:
全反射X熒光光譜儀分析原理是基于X熒光能譜法,但與X射線能譜形成對(duì)比的是,傳統(tǒng)能譜采用原級(jí)X光束以45°角轟擊樣品,而TXRF采用毫弧度的臨界角(接近于零度角)入射。由于采用此種近于切線方向的入射角,原級(jí)X光束幾乎可以全部被反射,照射在樣品表面后,可以很大程度上避免樣品載體吸收光束和減小散射的發(fā)生,同時(shí)減小了載體的背景和噪聲,亦可減少樣品使用量。
  • 詳細(xì)內(nèi)容
  如果n1>n2,則介質(zhì)1相對(duì)于介質(zhì)2為光密介質(zhì),介質(zhì)2相對(duì)于介質(zhì)1為光疏介質(zhì)。對(duì)于X射線,一般固體與空氣相比都是光疏介質(zhì)。所以,如果介質(zhì)1是空氣,那么α1>α2,即折射線會(huì)偏向界面。如果α1足夠小,并使α2=0,此時(shí)的掠射角α1稱為臨界角α臨界。當(dāng)α1<α臨界時(shí),界面就象鏡子一樣將入射線全部反射回介質(zhì)1中,這就是全反射現(xiàn)象。
  HORIZON 配備了12位樣品臺(tái)自動(dòng)測量,創(chuàng)新光學(xué)編碼器的步進(jìn)電機(jī),角度測量,采用高分辨、低背景的帕爾貼控溫硅漂移檢測器。廣泛應(yīng)用在環(huán)境分析、制藥分析、法醫(yī)學(xué)、化學(xué)純度分析、油品分析、染料分析、半導(dǎo)體材料及核材料工業(yè)分析領(lǐng)域。
全反射X熒光光譜儀主要特點(diǎn)
  1、單內(nèi)標(biāo)校正,有效簡化了定量分析,無基體影響;
  2、對(duì)于任何基體的樣品可單獨(dú)進(jìn)行校準(zhǔn)和定量分析;
  3、多元素實(shí)時(shí)分析,可進(jìn)行痕量和超痕量分析;
  4、不受樣品的類型和不同應(yīng)用需求影響;
  5、液體或固體樣品的微量分析,分析所需樣品量??;
  6、優(yōu)良的檢出限水平,元素分析范圍從鈉覆蓋到钚;
  7、動(dòng)態(tài)線性范圍;
  8、無需任何化學(xué)前處理,無記憶效應(yīng);
  9、非破壞性分析,運(yùn)行成本低廉。


 

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